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HTL系列恒溫金屬浴

簡要描述:

恒溫金屬浴:控溫精度高,制樣平行性好,以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的水浴裝置,可廣泛應(yīng)用于各種分析儀器樣品的培養(yǎng)、煮沸、去活化、濕消化、樣品濃縮和酶分析保存和反應(yīng)、DNA擴增和電泳的預(yù)變性、血清凝固等.行業(yè)遍及醫(yī)藥、化工、食品安全、質(zhì)檢、環(huán)境等

HTL系列恒溫金屬浴
  • 詳細介紹

恒溫金屬浴 HTL系列

恒溫金屬浴:控溫精度高,制樣平行性好,以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的水浴裝置,可廣泛應(yīng)用于各種分析儀器樣品的培養(yǎng)、煮沸、去活化、濕消化、樣品濃縮和酶分析保存和反應(yīng)、DNA擴增和電泳的預(yù)變性、血清凝固等.行業(yè)遍及醫(yī)藥、化工、食品安全、質(zhì)檢、環(huán)境等

常用于分子生物學(xué)實驗,如酶切、蛋白質(zhì)變性、融化瓊脂糖、核酸擴增檢測預(yù)反應(yīng)等,以及其它實驗的樣本保存、血清快速析出、凝固等,無須擔心水意外進到反應(yīng)管中而影響到實驗,又可避免了傳統(tǒng)水浴加熱污染的問題。此外控溫更精,可控溫范圍也更大。是傳統(tǒng)水浴裝置的良好替代品

恒溫金屬浴技術(shù)參數(shù)

型號

HTL系列

加熱塊容量

恒溫金屬浴可選模塊/可定制

溫度控制

智能PID控制系統(tǒng)

控溫范圍

室溫~300°C

控溫精度

±0.1~0.5℃

溫度均勻性

±0.5℃

顯示精度

0.1

定時范圍

1~9999分鐘(小時)或連續(xù)運行

升溫時間

≤30 分鐘(30℃至160℃)

電壓/頻率

220VAC±10%或110VAC±10%

50/60Hz

尺寸

定制

凈重

定制


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